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工艺深度解析

本文为公司三大核心工艺——超洁净清洗、PARTS智慧表面处理、兆声波清洗的深度技术解析,更多资讯请见新闻资讯 · 技术专栏

超洁净清洗工艺

零件表面的杂质、油脂、颗粒和其他污染物完全去除,以达到清洁、无尘、无油和无附着物的高纯度状态,以确保零件的高品质和可靠性。适用于半导体零部件、晶圆、硅环、石英件、陶瓷件等。

01
超声波粗洗
去除大颗粒污染物
02
DIW冲洗
超纯水精密冲洗
03
兆声波精洗
去除亚微米级颗粒
04
真空干燥
无尘干燥处理
05
百级包装
洁净室包装出货
超洁净清洗工艺应用

工艺应用

通过多级湿法清洗与兆声波精密处理相结合,配合超纯水冲洗与真空干燥,在百级洁净环境下完成包装出货,确保零部件达到高纯度洁净状态。

应用材料:硅/碳化硅件、石英件、陶瓷件、金属件、塑料件等

查看超洁净清洗装备

PARTS 智慧表面处理工艺

针对不同材料产品特性,提供从CNC机加、脱脂清洗、打磨抛光、电解抛光/化学抛光、阳极氧化、电镀镍、化学清洗到超洁净清洗、包装输运一站式PARTS智慧表面处理工艺应用解决方案。

01
CNC机加
精密加工成型
02
脱脂清洗
去除加工油脂
03
打磨抛光
表面光洁度处理
04
电解/化学抛光
精密表面处理
05
阳极氧化/电镀
功能性涂层
06
超洁净清洗+包装
最终洁净出货

工艺应用

一站式智慧表面处理产线覆盖机加、抛光、阳极氧化、电镀镍与超洁净清洗全流程,满足不同材料零部件的功能性与洁净度双重需求。

应用领域:半导体设备零部件、铝合金件、不锈钢件、钛合金件等

查看绿色表处产线
阳极氧化工艺应用
五金电镀工艺应用
阳极氧化产线工艺

兆声波清洗工艺

兆声波清洗产生的空化气泡更小,气泡破裂时释放的能量较低,在晶圆上的冲击力更温和,在去除极细小颗粒上特别有效,主要用于需要极高清洁度的芯片产品。兆声波清洗效率高、使用清洗剂浓度低,对环境的危害小,获得半导体厂商认可和应用。

01
兆声波发生
高频声波产生
02
空化效应
微小气泡破裂清洁
03
颗粒剥离
亚微米级颗粒去除
04
洁净漂洗
超纯水最终清洗
晶圆兆声波清洗设备

工艺应用

温和的空化作用在保护晶圆表面结构的同时,高效剥离亚微米级颗粒,是先进制程芯片清洗的关键工艺环节。

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