换能器粘贴于清洗槽底部背面，兆声波经槽壁传入清洗液，在液体内部形成高频剪切冲击力，配合清洗剂化学作用清除纳米级颗粒，并可深入高深径比微孔。按装载量分单片式（765 W）与多片式（1200 W）两种槽型，支持频率跟踪、扫频驱动与清洗质量在线监控。
槽式兆声波清洗技术
槽式兆声波清洗将换能器粘贴于清洗槽底部背面，兆声波经槽体壁传入清洗液中，在液体内部形成高频剪切冲击力，配合清洗剂的化学作用完成清洗。兆声波频率高、波长短，能够深入高深径比微孔结构，清除纳米级颗粒而不损伤工件表面。
按单次装载量分为单片式与多片式两种槽型：单片式面向单片晶圆的高洁净度工序，多片式面向批量清洗，强调产能与批次一致性。
设备特点
- 恒功率稳定输出，槽内声强分布均匀，批次间清洗效果一致；
- 频率实时跟踪（PLL）配合工作频率自动校正，换能器负载变化时保持谐振；
- 波形调制与自定义轨迹、扫频驱动，抑制驻波造成的清洗盲区；
- 清洗质量在线监控，工艺异常可追溯；
- 支持本地按钮与远程通信双控，提供 RS485、USB、Ethernet 及 I/O 口控制，外控启动接口 24 VDC；
- 换能器载体可选 316L 不锈钢或石英，适配不同药液体系；
- 根据客户槽体尺寸与工艺要求，具备换能器排布的非标定制能力。
技术参数
| 参数项 | HKD-STank-1M765W（单片式水槽） | HKD-MTank-1M1200W（多片式水槽） |
|---|---|---|
| 工作频率 | 1 MHz | 1 MHz |
| 最大功率 | 765 W | 1200 W |
| 功率调节范围 | 10～765 W | 10～1200 W |
| 供电电压 | 220 VAC ±10% | 220 VAC ±10% |
| 发生器尺寸 | 431 × 439 × 149.5 mm | 431 × 439 × 149.5 mm |
| 换能器尺寸 | 按用户需求定制 | 按用户需求定制 |
| 换能器载体方式 | 清洗槽底背面粘贴 | 清洗槽底背面粘贴 |
| 换能器载体材料 | 316L 不锈钢或石英 | 316L 不锈钢或石英 |
| 安装方式 | 嵌入式安装 | 嵌入式安装 |
| 支持液体温度（普通版） | ＜80 ℃ | ＜80 ℃ |
| 控制方式 | 本地按钮操控、远程通信控制 | 本地按钮操控、远程通信控制 |
| 通信方式 | RS485、USB、Ethernet、I/O 口控制 | RS485、USB、Ethernet、I/O 口控制 |
| 外控启动接口 | 24 VDC | 24 VDC |
| 显示方式 | 触摸液晶显示 | 触摸液晶显示 |
| 发生器工作环境 | 0～40 ℃、0～90% RH | 0～40 ℃、0～90% RH |
典型应用
- 半导体晶圆湿法清洗、CMP 后清洗
- 精密光学镜片、透镜及光电元件清洗
- 医疗器械清洗
- 精密零部件与实验器皿清洗
以上产品信息整理自产品资料。具体配置、参数与方案需结合工件材质、产能与现场条件确认，欢迎来电咨询。