鑫承诺 XCN

全板电镀/图形电镀线(填盲埋孔)

芯路电科全板电镀/图形电镀线采用龙门(脉冲)或VCP垂直连续式机型,填盲埋孔填充饱满度与微孔结合力优异,纵深比可达40:1及以上,均匀性TP值行业前端。

首页/产品中心/iEET电镀装备系列/全板电镀/图形电镀线(填盲埋孔)
电镀工艺制程总览与盲孔、埋孔、通孔截面示例

芯路电科全板电镀/图形电镀线采用龙门(脉冲)或VCP垂直连续式机型,填盲埋孔填充饱满度与微孔结合力优异,纵深比可达40:1及以上,均匀性TP值行业前端。

一句话读懂 iEET 全板电镀 / 图形电镀线

芯路电科(iEET)全板电镀 / 图形电镀线采用龙门(脉冲)或 VCP 垂直连续式机型,专攻填盲埋孔电镀铜。产线具备卓越的填盲埋孔填充饱满度与微孔结合力,纵深比可达 40:1 及以上,深镀能力优秀,均匀性 TP 值处于行业前端,设备稳定性与性价比俱佳。

一、什么是全板电镀 / 图形电镀

孔金属化完成沉铜后,需要通过电镀铜把导体的厚度做上去,这一步就是全板电镀;再经过图形化处理,形成线路外层的铜厚积累,就是图形电镀。两者共同承担"把孔内铜层做厚、把表面铜层做足"的任务,是载板走向高层数、高可靠性方向的关键工序。

整条电镀工艺链的常规顺序为:钻孔 → 除胶渣 → 活化 → 化学沉铜 → 电镀铜 → 检测。iEET 提供其中的除胶渣沉铜、全板电镀与图形电镀整线方案。

电镀工艺制程总览与盲孔、埋孔、通孔截面示例

二、机型与工艺特点

龙门(脉冲)/ VCP 垂直连续式

龙门式(脉冲电镀)与 VCP 垂直连续式两种机型可供选择,对应不同的产能规模与工艺节拍需求。

填盲埋孔能力

卓越的填盲埋孔填充饱满度与微孔结合力。盲孔自上而下、埋孔自外向内双向沉积,孔内铜层连续无空腔,与孔壁结合紧密。

深镀能力

纵深比可达 40:1 及以上,深镀能力优秀。在高纵横比结构中仍能保持孔内铜层完整,适用于先进封装与高密度线路板。

均匀性与 TP 值

均匀性 TP 值行业前端,全板各位置的铜厚差异控制在很小的范围内,保证同一批次不同位置的电性能一致。

稳定性与性价比

设备稳定性与性价比高,可长时间连续运行,产线稼动率与投资回报表现良好。

三、关键指标

项目 指标 / 说明
机型 龙门(脉冲)/ VCP 垂直连续式电镀线
工艺 全板电镀 / 图形电镀,填盲埋孔
纵深比 可达 40:1 及以上
深镀能力 深镀能力优秀
填充质量 填盲埋孔填充饱满,微孔结合力优
均匀性 TP 值行业前端
设备特性 稳定性与性价比高

四、孔金属化工艺链中的位置

电镀铜增厚位于孔金属化流程的后段:前段由除胶渣与活化决定孔壁是否干净、能否良好结合,中段由化学沉铜完成孔内初始金属化,后段由全板电镀与图形电镀把铜厚做足。整链配合才能得到可靠的导通与承载能力。

孔金属化完整流程总览:从除胶渣到活化、化学沉铜再到电镀铜增厚的完整孔金属化工艺链

五、常见问题

Q1:填盲埋孔填充饱满度差,根因在哪里?

多数情况不在电镀本身,而在前段。前序除胶渣不彻底或活化不充分时,孔壁存在树脂残留与氧化层,铜层无法连续沉积,形成空腔或结合力不足。应先确认孔壁状态,再调电镀参数。

Q2:纵深比能做到多少?

纵深比可达 40:1 及以上,深镀能力优秀。在这一纵深比范围内仍可保持孔内铜层的连续性与结合力。

Q3:TP 值代表什么?

TP 值反映全板铜厚的均匀性表现。TP 值越优,说明板面各位置的铜厚差异越小,同批产品的电性能一致性越好。本产线 TP 值处于行业前端。

Q4:龙门(脉冲)和 VCP 垂直连续式怎么选?

龙门式(脉冲)与 VCP 垂直连续式对应不同的产能规模与工艺节拍需求,可根据订单结构与厂房布局选型,两种机型在填盲埋孔与深镀能力上均具备一致性表现。

六、适用领域

主要面向 FC-BGA ABF IC 载板、高阶 HDI、AI 服务器背板、高速厚多层 PCB 等产品,覆盖 PCB、封装基板与晶圆制造。

终端领域:AI 服务器、智能手机、新能源汽车、工业控制、通信基础设施、消费电子物联网感知

以上产品信息整理自产品资料。具体配置、参数与方案需结合工件材质、产能与现场条件确认,欢迎来电咨询。

需要这款设备的详细方案?

联系我们,获取全板电镀/图形电镀线(填盲埋孔)的配置、报价与工艺验证支持