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4"~12"晶圆水平电镀机

传承台系晶圆电镀机设计技术特点,覆盖4至12寸全尺寸段晶圆,水平传输架构兼容多种工艺节拍,专攻RDL重布线层金属化与晶圆级表面金属化,可与垂直机、投片机组成整线。

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自动垂直晶圆电镀机与TSV-Cu filling填充效果

传承台系晶圆电镀机设计技术特点,覆盖4至12寸全尺寸段晶圆,水平传输架构兼容多种工艺节拍,专攻RDL重布线层金属化与晶圆级表面金属化,可与垂直机、投片机组成整线。

一句话读懂 iEET 4"~12" 晶圆水平电镀机

芯路电科(iEET)晶圆水平电镀机传承台系晶圆电镀机设计技术特点,覆盖 4" 至 12 寸全尺寸段晶圆,以水平传输架构兼容多种工艺节拍,面向 RDL 重布线层金属化与晶圆级表面金属化工艺,可与 8"/12" 垂直晶圆电镀机、HDF-018 全自动投片机组成晶圆电镀整线方案。

一、什么是晶圆水平电镀机

水平晶圆电镀机指晶圆以竖直姿态(旋转或多面体工装)进入槽体的湿制程设备,工艺液从上而下流经晶圆表面。与垂直机相比,水平机在每片处理、药液流向上下均匀、单槽产能与节拍弹性上更具灵活性,同时可兼容更宽的尺寸区间。

在先进封装产线里,水平机通常承担 RDL 金属化与大批量表面镀层工序,与垂直机形成工艺互补。

二、传承台系晶圆电镀机设计技术

iEET 晶圆电镀机系列传承台系设备的流场工程、药液循环与温控设计积累,形成 8"/12" 自动垂直晶圆电镀机与 4"~12" 晶圆水平电镀机两条互补产品线,客户可依据基材类型、孔结构与产能节拍自由选型或组合。

三、主要特点

  • 全尺寸段覆盖:覆盖 4"~12" 全尺寸段晶圆,水平传输架构兼容多种工艺节拍;
  • 工艺定位明确:专攻 RDL 重布线层金属化与晶圆级表面金属化工艺;
  • 洁净前端:标配 Clean Room 百级洁净标准 EFEM 晶圆前端模块与精密洁净晶圆搬运机器人;
  • 整线配套:与 8"/12" 自动垂直晶圆电镀机、HDF-018 全自动投片机组成晶圆电镀整线方案,支持从前道金属化到后道先进封装的全栈装备支撑。

四、关键技术指标

项目指标 / 说明
兼容尺寸4" 至 12" 全尺寸段晶圆
传输架构水平传输,兼容多种工艺节拍
核心工艺RDL 重布线层金属化、晶圆级表面金属化
洁净等级Clean Room 百级洁净标准 EFEM 晶圆前端模块
搬运方式精密洁净晶圆搬运机器人
整线配套垂直晶圆电镀机 + HDF-018 全自动投片机

五、常见问题

Q1:水平电镀机和垂直电镀机怎么选?

看工艺类型与孔结构。TSV 深孔、铜柱凸点等高纵横比填充优先选垂直机,流场对垂直方向填充更有利;RDL 重布线层与大面积表面镀层优先选水平机,工艺液自上而下冲刷更均匀,且单片处理与节拍弹性更好。

Q2:4" 到 12" 都在一台设备上兼容有什么好处?

客户在产品迭代或多种项目并行时,不必为不同尺寸重复采购设备,可减少设备种类、简化备件与人员培训成本,也便于产线在订单结构变化时灵活调配。

Q3:水平机可以单独使用吗?

可以,但多数先进封装产线会与垂直机、投片机联动使用,以实现全流程自动循环流转并降低人工干预与污染风险。

六、适用领域

TSV、Bumping 凸点、Fan-out 扇出型封装、3D 芯片堆叠封装等晶圆级先进制造场景。

以上产品信息整理自产品资料。具体配置、参数与方案需结合工件材质、产能与现场条件确认,欢迎来电咨询。

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